Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine

Máy Phủ Phủ Magnetron Chân Không

Máy phủ phủ magnetron TOB-1100X-SPC-16M sử dụng hiệu ứng phun tạo ra bởi sự bắn phá các hạt vào vật liệu mục tiêu trong môi trường chân không, khiến các nguyên tử hoặc phân tử vật liệu mục tiêu bắn ra khỏi bề mặt rắn và quá trình hình thành lớp màng mỏng được lắng đọng trên chất nền.

Gửi yêu cầu

Nói chuyện ngay

Giơi thiệu sản phẩm

Máy Phủ Phủ Magnetron Chân Không

Sự chỉ rõ

Máy phủ phủ magnetron TOB-1100X-SPC-16M sử dụng hiệu ứng phun tạo ra bởi sự bắn phá hạt của vật liệu mục tiêu trong môi trường chân không, khiến các nguyên tử hoặc phân tử vật liệu mục tiêu bắn ra khỏi bề mặt rắn và quá trình hình thành màng mỏng được lắng đọng trên chất nền. Thuộc về công nghệ lắng đọng hơi vật lý (PVD) để chế tạo màng mỏng. Máy phủ phủ magnetron TOB-1100X-SPC-16M có thể được sử dụng để chế tạo mẫu kính hiển vi điện tử quét trong phòng thí nghiệm và kích thước nhỏ gọn của thiết bị giúp tiết kiệm không gian trong phòng thí nghiệm; thao tác đơn giản và phù hợp với người mới bắt đầu sử dụng.

Đặc trưng

Được trang bị đồng hồ đo chân không và đồng hồ đo dòng điện phun, có thể theo dõi trạng thái làm việc theo thời gian thực.
Bằng cách điều chỉnh bộ điều khiển dòng phun và van khí chân không siêu nhỏ, nó kiểm soát áp suất buồng chân không, dòng ion hóa và lựa chọn khí ion hóa cần thiết để có được hiệu ứng phủ tốt nhất.
Vòng đệm cao su ở mép vỏ chuông được thiết kế đặc biệt để đảm bảo vỏ chuông thủy tinh sẽ không bị sứt mẻ khi sử dụng lâu dài.
Các phụ kiện điện cực cao áp được bịt kín bằng gốm bền hơn so với các loại gioăng cao su thường được sử dụng.
Theo đặc tính ion hóa của khí trong điện trường, người ta sử dụng buồng chân không phun có dung tích lớn và diện tích tương ứng của mục tiêu phun để làm cho lớp phun đồng đều và tinh khiết hơn.
Đầu phun sử dụng công nghệ làm mát Peltier để tạo ra lớp phủ hạt mịn có hiệu suất cao.
Có sẵn đầu phun làm mát bằng nước và bàn mang làm mát bằng nước.

tên sản phẩm	Máy Phủ Phủ Magnetron Chân Không
dòng sản phẩm	TOB-1100X-SPC-16M
Điều kiện lắp đặt	Thiết bị này phải được sử dụng ở độ cao 1000m trở xuống, nhiệt độ 25 độ ±15 độ và độ ẩm 55%Rh ±10%Rh. 1. Nước: thiết bị cần được trang bị máy làm mát nước tuần hoàn tự động tùy chọn (làm đầy nước tinh khiết hoặc nước khử ion) 2. Điện: AC220V 50Hz, phải có tiếp địa tốt 3. Khí: buồng thiết bị cần nạp khí argon (độ tinh khiết 99,99% trở lên), cần phải có bình khí argon riêng (có van giảm áp) 4. Bàn làm việc: kích thước 600mm×600mm×700mm, chịu tải 50kg trở lên. 5. Thiết bị thông gió: không yêu cầu
Tham số chính	1. Mục tiêu: Ø50mm
	2. Buồng chân không: Ø160mm×120mm
	3. Độ chân không: Nhỏ hơn hoặc bằng 4×10-2mbar
	4, dòng điện tối đa: 50mA (tùy chọn 100mA)
	5. Có thể thiết lập thời gian giới hạn: 9999 giây
	6. Van chân không siêu nhỏ: Kết nối ống Ø3mm
	7. Điện áp giới hạn: 1600V DC
	8. bơm cơ học: 2L/giây
	9. Vật liệu mục tiêu: Yêu cầu về kích thước: φ50mm×(0.1-0.5)mm(độ dày) Thích hợp cho việc phun Au, Ag, Cu và các kim loại khác (có sẵn tại công ty chúng tôi)
	10. Kích thước: 360mm×300mm×380mm Tổng trọng lượng: 50Kg, Trọng lượng tịnh: 15Kg